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真の使いやすさの追求。「計測アシスト機能」、「AI検査」をはじめとする新規ソフトウェアを搭載
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6つの機能を1台で高度な連携であらゆる観察・測定領域を網羅
本装置は株式会社米倉製作所が販売しております。弊社は、超高温観察レーザー顕微鏡システムのカメラヘッドをOEM供給しております。
表面検査およびフォトルミネッセンス（PL）検査の両方を備えた検査装置
GaNウェハの各種欠陥をより高速に検出し、高い解像度で欠陥の観察が可能
リチウムイオン電池の電極シートの塗工工程管理、品質向上に最適な検査機
リチウムイオン電池の充放電中の電気化学反応をIn-situで可視化/定量化
ウェハ外周部の歩留定量管理とプロセス異常の解析用途に
バンプの高精度3D形状測定、ウェハ外周部の品質管理に
TSV裏面研磨プロセスでのSi厚さ、TSV深さ、Remaining Si厚さ測定装置
多波長を用いた膜厚・エッチングばらつき・CDの全面高速検査
次世代プロセスに求められる微小欠陥検出を実現した高感度欠陥検査レビュー装置
デザインノード7nm/5nmに対応可能なEUVマスク用の半導体マスク検査装置
デザインノード20nm～10nm以降に対応できる半導体マスク検査装置
20nmノード以降の半導体デバイス用フォトマスク欠陥検査装置
28nmノード以降の半導体デバイス用フォトマスク欠陥検査装置
EUVマスクブランクス上の転写性位相欠陥の検出および欠陥管理
EUVマスク裏面の異物検出・高さ測定・クリーニング機能を1台に統合
設計ルール5nm以降の最先端半導体マスク用ブランクス欠陥検査/レビュー装置
設計ルール7nm以降の最先端半導体フォトマスク用マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
設計ルール10nm以降の最先端半導体フォトマスク用マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
高感度・高スループットを両立したマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
フォトマスクの洗浄・ペリクル貼り付け後に位相差・透過率測定が可能に
業界標準機のKrF用位相シフト量測定装置
第10.5世代対応大型フォトマスクを高速/高感度で欠陥検査が可能
微細化の進むFPDフォトマスクを高感度で検査
第10.5世代用CLIOSとの連結でペリクルの異物検査から貼り付けまで自動処理
大型フォトマスクパターン欠陥検査装置とインラインで連結しペリクルの異物検査から貼付けまで自動処理
従来機から検査性能を一新 高精細FPDフォトマスク製造の歩留り改善に貢献
g,h,i線の3波長の位相差・透過率測定が可能に
コンフォーカル（共焦点）顕微鏡について
用語解説
展示会出展情報
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