微細化に加え、新材料・新構造の導入でますます高度化が進む半導体製造プロセスになくてはならない存在となっているのが当社の検査・測定装置です。マスクブランクス検査装置は業界の標準検査装置としての実績を確立しています。主力製品のマスク欠陥検査装置、マスクブランクス検査装置に加え、リソグラフィプロセス検査装置や膜厚ムラ検査装置など各種ウェハ関連の検査・計測装置を豊富に揃えております。

次世代パワー半導体の用途は電力システム（スマートグリッド、次世代送電網）、鉄道、オフィス機器、民生機器など多岐にわたります。パワー半導体の中でも「SiCパワー半導体」は電力損失を数分の一に低減できる省エネ半導体で、今後シリコンに代わる素材として期待されています。SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置は従来検出できなかった基板上の各種結晶欠陥やナノサイズの浅い凹みのキズなどの検出を可能とし、量産用にも対応。歩留まり向上に貢献しています。

FPDの技術革新を支える最先端のFPDフォトマスク検査装置を提供しています。レーザーテックのFPDフォトマスク検査装置は業界の標準検査装置としての地位を確立しています。FPDフォトマスクのパターンの微細化に対応した検出性能の向上で、フォトマスクの品質改善に大きく寄与しています。

様々な材料や部品の観察と分析に威力を発揮、研究開発現場を支えています。
半導体材料、透明膜、コーティング材料、無機/有機材料、各種バイオ系試料、金属部品、プラスチック加工部品など、幅広い産業分野における研究開発、品質管理に活用されています。
最新モデルOPTELICS HYBRIDは、カラーコンフォーカル光学系と波長405nmのレーザー光の2つの光学系を1台に搭載した最新モデルです。カラーコンフォーカル光学系の特長である高精細フルカラー・広視野画像と、レーザー光の特長である高倍率/高分解能という機能を1台に集約し、あらゆる観察・測定領域を網羅しています。